常見的金屬元素檢測中，原子吸收光譜利用原子光譜中單色光照射，只能檢測一種元素的含量，不過檢測限比較低而且重現性比較好。ICP-OES是原子發射光譜，檢測原子光譜中的多條譜線，檢測限也比較低，而且多通道可以同時檢測多種原子和離子，比較方便，重現性也不錯。ICP-MS是ICP質譜聯用，利用質譜檢測同位素含量來檢測元素的含量，檢出限最低，效果最理想。
ICP-MS是一個以質譜儀作為檢測器的等離子體(ICP)，而質譜學家則認為ICP-MS是一個以ICP為源的質譜儀。事實上，ICP-OES和ICP-MS的進樣部分及等離子體極其相似。ICP-OES測量的是光學光譜(165～800nm)，ICP-MS測量的是離子質譜，提供在3～250amu范圍內每一個原子質量單位的信息，因此，ICP-MS除了元素含量測定外，還可測量同位素。
適用范圍：AAS用于已知元素含量的檢測;ICP可以用于已知，也可以用于未知，適合多元素分析;ICP-MS由于比較貴而且檢出限最低，一般是用作標準測量的時候。
ICP-MS的檢出限給人極深刻的印象，其溶液的檢出限大部份為ppt級，石墨爐AAS的檢出限為亞ppb級，ICP-OES大部份元素的檢出限為1~10ppb，一些元素在潔凈的試樣中也可得到令人注目的亞ppb級的檢出限。而ICP-MS的ppt級檢出限是針對溶液中溶解物質很少的單純溶液而言的，若涉及固體中濃度的檢出限，由于ICP-MS的耐鹽量較差，ICP-MS檢出限的優點會變差多達50倍。一些普通的輕元素(如S、Ca、Fe 、K、Se)在ICP-MS中有嚴重的干擾，也將惡化其檢出限。
兩種質譜儀器其特點：
ICP-OES：電感耦合等離子體發射光譜儀，它是ICP結合原子發射光譜技術形成的分析儀器:樣品在等離子體中吸收能量，解離的各待測元素元素原子從激發態回到基態時發射出光譜，不同的元素有特定能量的特征譜線，檢測元素特征譜線可對樣品進行定性和定量分析。
ICP- OES 儀器配備一種專為用戶設計的CCD檢測器，具有獨特的圖像映射技術(l-MAP)，可提供167~785nm的全波長覆蓋模式，最快35s內實現72種元素測定， ICP-OES法是各種分析方法中干擾較小的一種，一般情況下其相對標準偏差<10% ，當分析物濃度超過100 倍檢出限時， 相對標準偏差<1%，對應濃度為PPM(mg/L)級別;可分析的元素為大多數的金屬和硅、磷、硫等少數非金屬，多種元素。
ICP-MS全稱是電感耦合等離子體質譜(Inductively coupled plasma-Mass Spectrometry)，它是一種將電感耦合和質譜結合在一起的分析儀器，它能同時測定幾十種痕量無機元素。該設備適用于痕量及超痕量多元素分析、同位素比值分析。
